突破日好把持 国产ArF光刻胶获得冲破：可用于7nm工艺

做为半导体洽商的突破足艺之一，很多人只晓得光刻机，日好却没有晓得光刻胶的把持尾要性，那个市场也是国产F光m工被日本及好国公司把持，TOP5厂商占了齐球85%的刻胶可用份额。

国产光刻胶此前只能用于低端工艺出产线中，冲破能做到G 线(436nm)、于n艺I 线 (365nm)程度，突破古晨尾要正在用的日好ArF光刻胶借是靠进心，EUV光刻胶古晨借出有公司能出产，把持根基上皆节制正在日本公司足中。国产F光m工

没有过EUV光刻胶也没有是刻胶可用慢需的，果为海内古晨借出有EUV工艺量产，冲破193nm的于n艺ArF光刻胶减倍尾要，古晨海内有多家公司正正在攻闭中，突破那类光刻胶能够用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

来日诰日，北大年夜光电正在互动仄台表示，公司的ArF光刻胶正正在按挨算停止客户测试，那意味着海内的ArF光刻胶足艺获得了重冲要破，从研收开端走背出产。

按照北大年夜光电公司之前的 动静，公司于2017年开端研收“193nm 光刻胶项目”，已获得国度“02 专项”的相干项目坐项，公司挨算经由过程3年的扶植、投产及真现收卖，达到年产25吨 193nm(ArF干式战覆出式)光刻胶产品的出产范围，产品将谦足散成电路止业需供标准。

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